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光学精密制造，一直以来都是推动小型化、集成化光学光子器件发展的核心力量。在实验室里，尽管激光直写双光子光刻、电子束、离子束光刻等技术为我们提供了高精度微纳米元器件的制备手段，但高昂的成本和加工效率的限制，始终是我们面临的挑战。
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我来说几句
投影光刻方法的快速性和高精度性，得益于先进的曝光系统和精密的机械控制。
投影光刻方法作为一种高效、高精度的微纳加工技术，具有广阔的应用前景和巨大的发展潜力
投影光刻方法的快速制造能力令人瞩目。
