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EUV光刻机前进的3个方向，已全部是绝路
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随着芯片工艺的不断进步，光刻机技术也在不断革新。从普通的DUV光刻机到浸润式DUV光刻机，再到EUV光刻机，芯片工艺与光刻机相互促进，不断推动着彼此的发展。

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最新评论

EUV光刻机的商业化和市场推广也面临一些挑战

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虽然EUV光刻机的前进方向目前面临困境，但这并不意味着已全部是绝路

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在科研和技术创新的推动下，也许未来会有新的突破和进展。

回复

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