科学家利用电镀方法,实现了厚度可达毫米量级单晶铜片的制备

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北京大学科学家突破电镀单晶铜片技术,首次利用电镀的方法,实现毫米级厚度单晶铜片的制备,并提出衬底表面原子台阶诱导金属单晶生长的外延电镀新机制。相关研究近日在线发表于《科学通报》。

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很方便的方法,成本很低
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