国产芯片何时可以开出一条成功之路？
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根据媒体报道，三星电子的3nm制程将于2022年量产，如果能顺利实现，这将是三星电子近年来首次与台积电同步。据悉，三星电子采用的是GAA技术（环绕闸极技术），与台积电的FinFET工艺有所不同。三星电子突破3nm，台积电，三星两强相争，国产芯片面临的差距再次拉大。根据此前荷兰光刻机制造商阿斯麦的表态，DUV光刻机无需获得美国批准，但是EUV光刻机暂时不在此列。这也意味着国内将很难获得EUV光刻机，国产芯片新工艺制程研发受阻，止步于7nm制程。韩国企业从DRAM切入半导体产业，如今又在晶圆代工领域发力，在3nm制程与台积电并驾齐驱。对于国产芯片而言，在没有光刻机的情况下，从存储芯片领域打开市场，或许不失为一条可行之路，韩国芯片的成功是一条可以复制的成功之路。
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