中微电子成功研制出3nm蚀刻机，再尖端的设备我们也能造

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视频介绍

今年我国芯片行业好消息不断传来，这不5月初，中微公司传来消息，他们已经成功研制出3nm蚀刻机，且完成了原型机的设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估，并已进入量产阶段。众所周知，半导体工艺流程主要包括晶圆制造、设计、制造和封测几个环节。每个环节不但需要高尖端技术，还需要大量的软件和硬件设备。单晶硅片制造需要单晶炉等设备，其中，光刻机、蚀刻机、薄膜设备最为主要。蚀刻机的工作原理是按光刻机刻出的电路结构，在硅片上进行微观雕刻，刻出沟槽或接触孔。蚀刻机利用显影后的光刻胶图形作为掩模，在衬底上腐蚀掉一定深度的薄膜物质，随后得到与光刻胶图形相同的集成电路图形。此前，市场上主流的刻蚀设备是5nm蚀刻机，掌握该技术的企业不在少数。不过，随着中微3nm蚀刻机的横空出世，这家国产巨头成了全球唯一有此技术的企业。这意味着，传统芯片若想向3nm或者2nm迭代，将绕不开中国制造的3nm刻蚀设备，我们在全球芯片市场，或将自此拥有相对的话语权。中微研制出3nm蚀刻机向世界证明了，哪怕是再尖端的技术设备，我们中国也能制造，对此你怎么看呢？