微生物的抗生素抗性比新型抗生素的发现与发明速度还快，该怎么解决

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视频介绍

抗生素的滥用可提高和加速微生物的抗生素抗性。由于在过去的半个世纪中，微生物抗生素抗性的增长速率远远超过新型抗生素的发现与发明速度，抗生素抗性已成为了全球性的健康风险问题并受到广泛关注。据估计，全球每年约有70万死亡病例可归咎于耐药微生物感染。如果不采取任何措施，至2050年，这一死亡人数会进一步增长至每年1000万例。 已有研究表明，传统污水处理工艺无法有效去除污水中的抗生素抗性细菌和抗性基因。不仅如此，水处理过程中未被完全去除的抗生素以及其他化学物质会促进抗性基因在污水处理设施中的水平转移，使微生物可以从周围环境中摄取游离的抗性基因从而获得抗生素抗性。 为了解决上述问题加州理工学院结合紫外光和高级氧化消毒的原理，开发了一种基于二氧化钛蓝色纳米管材料的紫外光辅助电化学氧化工艺UV-EO，用于深度去除污水中抗性细菌及抗性基因。在该小试研究中，经由UV-EO处理后。与单一紫外光消毒相比，UV-EO有效增强了抗性细菌和抗性基因的去除效率。其中，由电化学氧化氯离子生成的自由氯以及随后发生的紫外光和氯的光催化反应使得去除效率被进一步提高。在氯离子存在的条件下，UV-EO基于光通量的一级动力学速率常数对长靶和短靶序列分别为单一紫外光辐照反应下的 2.1-2.3倍和1.3-1.8倍。 电化学氧化工艺如果被整合入现有的紫外消毒单元中，将能有效解决抗性细菌和抗性基因带来的新挑战。