新陶瓷制备手段，低温条件下的奇迹真空冷喷涂技术

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视频介绍

陶瓷的制备通常需要 1000℃以上:的烧结温度，这使得将陶瓷与其他低熔点的金属、玻璃或塑料整合在一起。这对于提高导电陶瓷组件及其光学组件的性能是一个严重问题。 这就有了这样一种制备陶瓷涂层的冷喷涂技术，它就是真空冷喷涂技术，又称为气浮沉积法，使用纳米或亚微米陶瓷颗粒作为原料，并在低温下通过高速气流将陶瓷颗粒沉积到基材上。 真空冷喷涂具有许多优点，例如低温，低成本，易于操作。在传统的涂层制备技术中，激光熔覆、等离子喷涂、超音速火焰喷涂等方法被用来制备陶瓷涂层，这些方法普遍采用高温热源，使得陶瓷粉末与金属基体之间产生残余拉应力，并且高温导致的相变和晶粒粗化的问题阻碍了陶瓷涂层的应用推广，而冷喷涂技术可以避免上述问题。 真空冷喷涂技术的优势是使将材料以固态形式沉积在任何基体材料上成为可能。而目前常用于冷喷涂使用的粉末主要有羟基磷灰石、二氧化钛、氧化铝等。 通过真空冷喷涂技术形成的陶瓷涂层在新材料相关的领域有着潜在的应用，尤其是在新能源、电子工程方面。看来它大有可为啊。