重磅!IBM发布全球首个2nm芯片制造技术,功耗较7nm减少75%

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蓝色巨人出手就是王炸,IBM宣布造出了全球第一颗2nm工艺的半导体芯片,真的是让人羡慕。核心指标方面,该2nm芯片的晶体管密度为333.33,几乎是台积电5nm的两倍,也比外界预估台积电3nm工艺的292.21 MTr/mm2要高。换言之,在150平方毫米也就是指甲盖大小面积内,就能容纳500亿颗晶体管。同时,在同样的电力消耗下,其性能比当前7nm高出45%,输出同样性能则减少75%的功耗。实际上,IBM此前也是率先造出7nm和5nm 芯片的厂商,在电压等指标的定义上很早就拿下主导权。回到此次的2nm上,采用的是GAA(环绕栅极晶体管)技术,三层。IBM介绍,这是第一次使用底介电隔离通道,它可以实现12 nm的棚长,其内部间隔是第二代干法设计,有助于纳米片的开发。这也是第一次使用EUV曝光FEOL部分过程。这对台积电和三星也算是个目标了,当然更期待国内芯片制造的进步。

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