使抛光效率提高50%以上同时表面缺陷也降低80%的新技术
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氧化铈抛光粉因具有切削能力强，抛光效率高，抛光精度高，抛光质量好，操作环境清洁，污染小，使用寿命长等优点，在光学精密抛光和CMP等领域占有极其重要的地位。 在南昌大学稀土与微纳功能材料研究中心的研究人员，提出抛光粒子的复合化和表面修饰是目前提高CMP抛光效率和精度的主要方法和途径。因为通过多组分元素的复合可以调谐粒子性能, 并通过表面修饰来提高抛光浆料的分散稳定性和抛光效率。掺杂TiO2的CeO2粉体的制备和抛光性能,可以使抛光效率提高50%以上,同时,表面缺陷也降低80%。因此 ,掺杂氧化铈微纳米复合氧化物的制备技术对于发展新型抛光材料,探讨抛光机制具有非常重要的意义。
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